[StudyDiary16] 반도체 기초ㅣ반도체 공정_식각 공정·에칭(Etching)_습식식각&건식식각, Plasma(플라즈마)_발생 메커니즘


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20.03.03~20.03.05선이에요 :) 이번 포스팅은 식각 공정(Etching)에 관해서 포스팅해보려합니다! 식각 공정 (Etching, 에칭)식각 공정(Etching)이란?식각 공정(Etching)이란 포토공정에서 형성된 감광액(PR) 부분을 남겨두고, 산화막의 나머지 영역을 부식액(etchant)을 이용해 제거하여 회로 패턴을 형성하는 공정입니다이후 식각이 끝나면 감광액(PR)을 제거해 주는데, 이 과정을 박리(PR strip)라고 해요반도체를 구성하는 여러 층의 얇은 막에 원하는 회로 패턴을 형성하는 과정을 반복함으로써 반도체 구조가 형성됩니다식각을 잘해야 하는 이유는 무엇일까요?식각은 곧 수율과 이어지기 때문입니다잘못된 식각으로 인하여 회로.......


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